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美荷对中国光刻机技术的共同担忧与政策动态

2026年10月，围绕中国光刻机的国际争论再次升温。美国研究机构提出进一步限制对华供应浸没式光刻设备，荷兰则对美国试图扩大域外管辖的做法提出异议。两国都曾对中国先进半导体能力的发展表达安全关切，但公开资料并不能证明双方曾联合发布针对中国国产光刻机技术性能的批评声明。真正值得关注的是，美荷为什么持续围绕中国芯片制造能力调整政策，以及中国自主研发取得进展后，国际半导体产业的竞争规则正在发生什么变化。